Prozessentwicklung
Arbeitsschwerpunkte der Gruppe:
- Prozessentwicklung auf dem Gebiet der optischen Dünnschichttechnologie für Anwendungen der Präzisionsoptik, Lasertechnik und Konsumoptik
- Reaktives thermisches Verdampfen im Vakuum
- Ionen- und plasmagestützte Prozesskonzepte (IAD, Ion Assisted Deposition)
- Ionenstrahlzerstäuben (IBS, Ion Beam Sputtering)
- Optimierung von Beschichtungsverfahren, Erprobung neuer Prozessansätze und Technologien
- In-situ-Prozesskontrolle, Sensorik, Prozessdokumentation
- Erforschung der grundlegenden Wechselwirkungsmechanismen im Beschichtungsprozess
- Adaptierung von Prozesskomponenten, z. B. Ionenquellen (Plasmaanalytik)
- Qualifizierung neuer Materialien, z. B. Mischmaterialien, Kunststoffe, multifunktionale Schichten: photokatalytische Aktivität (u.a. antimikrobielle Wirkung)
- Software-Tools: Design, Simulation, Qualitätssicherung
- Umsetzung und Beratung für die industrielle Fertigung, Technologiestudien
Aktuelle wissenschaftliche Arbeiten und Projekte:
- Erforschung von HfO²-basierten Mischschichten für den Einsatz in Laseroptiken bei der Wellenlänge 355 nm, Erhöhung der Laserfestigkeit gegenüber klassischen Reinmaterialien und Optimierung der Beschichtung von LBO-Kristallen
- Steigerung der Prozessausbeute und Präzision mittels eines breitbandigen optischen Schichtdickenmonitors
(BBM): Umsetzung einer automatisierten Fehlerkorrektur sowie einer maßgeschneiderten Simulationsumgebung in die industrielle Produktion - Erweiterung des Prozessverständnisses plasmabasierter Verfahren, Entwicklung von in-situ-Analytik zur Charakterisierung des Plasmas sowie der Zusammensetzung des gesputterten Materials (Spezies und Energieverteilungen)
- Modellierung des Schichtwachstums, Programmierung und Einsatz molekulardynamischer Simulationen, Zusammenführung mit den Ergebnissen der in-situ-Analytik
- Realisierung optischer Polymerschichten: Einsatz von Magnetron-Sputtertechnologie und Aufbau einer angepassten IBS-Anlage














![Versuchsvorbereitung im Reinraum [ISO 5] Versuchsvorbereitung im Reinraum [ISO 5]](http://www.lzh.de/sites/default/files/images/s._22_laserentwicklung_04_labor.block.jpg)



































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