Gruppe Photonische Materialien
  • FOKUSTHEMEN

  • Physikalische Grundlagen der
    Dünnschichttechnologie

  • Simulation und Modellierung von
    Schichtwachstumsprozessen

Die Gruppe Photonische Materialien beschäftigt sich mit grundlegenden physikalischen Prozessen im Bereich der Dünnschichttechnologie. Zudem untersucht sie neue Materialien und Materialklassen, um weitere Anwendungsfelder zu erschließen. Im Mittelpunkt stehen dabei die Simulation und Modellierung von Schichtwachstumsprozessen mit Hilfe von Spezialsoftware. Mit den Ergebnissen können die LZH-Wissenschaftler die Zerstörschwellen von Optiken erhöhen und das Einsatzpotenzial neuartiger Materialien evaluieren.

Dieser Ansatz ist neu, da Beschichtungen erstmals auf numerischer anstatt auf empirischer Grundlage optimiert werden können. Mit einem Multiskalenmodell sollen die elektronischen und optischen Beschichtungseigenschaften des Materials beschrieben sowie dessen Schichtstruktur bis auf die atomare Ebene abgebildet werden. Auch die nichtlinearen Eigenschaften sollen hierbei einfließen. Zusammen mit aktuellen Ratengleichungsmodellen lassen sich so Zerstörschwellen und die nichtlineare Absorption berechnen.

Daneben befasst sich die Gruppe Photonische Materialien mit der Umsetzung von phasenseparierenden Beschichtungsprozessen. Dabei untersucht und beeinflusst sie das Beschichtungsmaterial gezielt, um die Schichtqualität zu verbessern und insbesondere die Absorption und Defektdichten in High-End-Beschichtungen zu minimieren.