Beschichtungen
Arbeitsschwerpunkte der Gruppe:
- Entwicklung und Herstellung von Schichtsystemen für optische und sensorische Anwendungen
- Schichtsysteme mit physikalischen Dicken von wenigen Nanometern bis hin zu 100 μm starken Schichtsystemen. Als Depositionsverfahren kommen PVD Prozesse zum Einsatz
- Thermisches Verdampfen bzw. der Elektronenstrahl-Verdampfungsprozess
- Ionenunterstützte Bedampfung (IAD)
- Ionenstrahlsputtern (IBS)
- DC und RF Sputterprozesse für ausgewählte Materialgruppen
- Direkte Umsetzung von Forschungsergebnissen bei der Darstellung optischer Funktionsschichten für Laserapplikationen und Messtechnik
- Darstellung dielektrischer Systeme auf Basis diskreter Brechungsindizes und als Gradientensysteme (Rugatefilter)
Aktuelle wissenschaftliche Arbeiten und Projekte:
- Entwicklung von Schichtsystem mit komplexer optischer Funktion und niedrigsten Verlusten für Laseranwendungen
- Optimierung und Entwicklung von leistungsstabilen Wellenlängen-und Polarisationskopplern zum Wellenlängenmultiplexing mit minimalem spektralem Abstand für Diodenlasersysteme
- Untersuchungen und Herstellung von Schichtkonfigurationen zum Einsatz in der Verbindungstechnik, auf Basis
metallisierter Lötsysteme, reiner AFB Bondingtechniken und angepassten Klebeverfahren - Herstellung und Qualifizierung von Optiken für Raumfahrtanwendungen
- Entwicklung von strahlungsresistenten Schichtsystemen für FEL Laser im Wellenlängenbereich von 150-200 nm
- Entwicklung und Herstellung von stressoptimierten Beschichtungen mit minimalen Wellenfrontfehlern für astronomische Applikation (E-ELT)
- Teilnahme am “Excimer mirror thin film laser damage competition” im Rahmen des Annual Symposium on Optical Materials for High Power Lasers (September 2011)


































![Versuchsvorbereitung im Reinraum [ISO 5] Versuchsvorbereitung im Reinraum [ISO 5]](http://www.lzh.de/sites/default/files/images/s._22_laserentwicklung_04_labor.block.jpg)















.jpg)
